石英坩堝可在1450度以下運用，分通明和不通明兩種。用電弧法制的半通明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅，發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎(chǔ)材料。當(dāng)今，國際半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)達國家已用此坩堝取代了小的通明石英坩堝。他具有耐溫性強、尺寸大精度高、保溫性好、節(jié)約能源、質(zhì)量安穩(wěn)等長處。

 　　不能和HF觸摸，高溫時，容易和苛性堿及堿金屬的碳酸鹽效果。石英坩堝適于用K2S2O7,KHSO4作熔劑熔融樣品和用Na2S207（先在212度烘干）作熔劑處理樣品。石英質(zhì)脆，易破，運用時要注意。

 　　除HF外，一般稀無機酸可用作清洗液。國內(nèi)常用拉制單晶硅用石英坩堝18英寸和20英寸22英寸也有廠家運用22及以上的坩堝。目前國內(nèi)坩堝出產(chǎn)大廠家出產(chǎn)的坩堝技能都比較老練。其出產(chǎn)運用質(zhì)料石英砂由美國進口和挪威高純石英砂兩種。也有小廠運用國產(chǎn)料其質(zhì)料出產(chǎn)的石英坩堝對拉制單晶硅時其安穩(wěn)性都有必定影響。

 　　目前坩堝出產(chǎn)涂層技能已被大多數(shù)廠家運用就是在一般石英砂溶制的坩堝外表涂上一層二氧化鋇溶液使其形成細密層，其細密層能阻撓單晶硅高溫拉制過程中硅與石英坩堝反應(yīng)提高成晶率。